3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台，包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。
据悉，等离子体刻蚀机，是光刻机之外，最关键的、也是市场最大的微观加工设备。由于微观器件越做越小和光刻机的波长限制，也由于微观器件从二维到三维发展，刻蚀机是半导体设备过去十年增长最快的市场。这一重要里程碑标志着中微公司在等离子体刻蚀设备领域持续得到客户与市场的广泛认可，也彰显了公司在等离子体刻蚀领域已进入国际前列。
3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台，包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反...[详细]
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