8月22日晚间，国内半导体设备企业中微公司披露了2024年上半年业绩报告。随着公司多款半导体设备在国内外销售，报告期内，公司实现营业收入34.48亿元，同比增长36.46%；归母扣非净利润约4.83亿元，同比减少约6.88%。

中微公司董事长尹志尧表示，公司上半年业绩保持高速增长，产品交付和产值再创历史新高。

据介绍，报告期内，中微公司等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升。

从营收构成来看，按设备类型划分，今年上半年，中微公司刻蚀设备实现收入26.98亿元，同比增长约56.68%，刻蚀设备占营业收入的比重由上年同期的68.16%提升至78.26%。另一重要产品MOCVD设备实现营收1.52亿元，同比减少约49.04%。对此，中微公司表示，主要是因为公司在蓝绿光LED生产线和Mini-LED产业化中保持绝对领先的地位，而该终端市场近两年处于下降趋势。此外，2024年上半年，中微公司新产品LPCVD设备已实现首台销售，收入为0.28亿元。

随着中微公司在国内外客户市场占有率稳步提升，今年上半年，其新增订单仍保持增长。报告期内，公司新增订单达47.0亿元，同比增长约40.3%。其中，刻蚀设备新增订单39.4亿元，同比增速约50.7%；LPCVD上半年新增订单1.68亿元，新产品开始启动放量。

中微公司也在把握市场机遇，不断投入研发。2024年上半年，公司研发投入达9.70亿元，同比大幅增长110.84%，在研项目涵盖六类设备，20多个新设备开发。此外，公司目前已有多款新型薄膜沉积设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进。MOCVD设备研发方面，用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中，已付运样机至国内领先客户开展验证测试，下一代用于氮化镓功率器件制造的MOCVD设备也正在按计划顺利开发中。

为支撑下一步发展，中微公司产业化建设项目也正在推进中。8月份，公司位于上海临港的约18万平方米生产和研发基地正式投入启用。未来，公司生产和研发基地总面积将达到约45万平方米。尹志尧表示，希望将中微公司打造成为半导体集成电路微观加工设备的百年企业，到2035年，在规模和竞争力上成为全球第一流的半导体设备公司。

某半导体投资机构总监向记者表示：“国内半导体设备企业经营业绩展现出的高成长性，与其日益强劲的竞争优势有关。企业一方面提升研发、设计、制造、销售的综合能力，为全球客户提供领先的设备及工艺解决方案，另一方面积极了解新产品、新技术、新市场变化，通过深度合作，开发创新性解决方案，提升产品竞争力。”