6月24日，据中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）官微消息，公司Primo Menova™12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商。

公开资料显示，中微公司的12英寸ICP单腔刻蚀设备Primo Menova™专注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造。

此项里程碑既标志着中微公司在等离子体刻蚀领域的又一自主创新，也彰显了公司持续研发的技术能力与稳步发展的综合实力。目前，公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进存储、先进封装生产线。